Радиоэлектронное машиностроение


Нижегородский институт технологии и организации производства

Установка экспонирования УФ-210

 

 

 

  

  • Экспонирование пластин 
    диаметром до 200 мм

  • Безопасный источник 
    ультрафиолетового излучения

  • Простота использования и технического обслуживания

Общий вид УФ-210

     Установка экспонирования УФ-210 предназначена для снижения адгезии УФ-чувствительных пленок, используемых при разделении пластин и подложек на установках дисковой резки, а также при шлифовке пластин. Она обладает безопасным и надежным источником ультрафиолетового излучения и позволяет полностью контролировать процесс экспонирования через панель оператора с графическим дисплеем. Также на дисплей выводится информация о суммарном времени работы УФ-ламп, что дает возможность произвести их своевременную замену и избежать простоев. Конструкция установки обеспечивает простоту использования и технического обслуживания.
      В настоящее время УФ-пленки находят все большее применение благодаря наличию ряда преимуществ по сравнению с обычными пленками, главным из которых является высокая адгезия, позволяющая надежно фиксировать пластины/кристаллы в процессе резки. УФ-пленку рекомендуется использовать в случаях если:

  • Требуется высокая адгезия
  • Производится резка тонких и хрупких пластин
  • Производится резка пластин с различными размерами кристаллов

      Выбор обычной пленки с требуемой адгезией осуществляется исходя из размеров получаемых кристаллов/элементов. Она должна надежно удерживать кристаллы/элементы в процессе резки, но в тоже время позволять осуществлять их съем с пленки без повреждения. Использование УФ-пленки дает бескомпромиссное решение этой задачи. До экспонирования адгезия пленки настолько высока, что позволяет удерживать даже самые небольшие кристаллы, предотвращая сколы, вызванные их микроперемещениями в процессе резки. После экспонирования адгезия пленки снижается до 10 раз, обеспечивая тем самым безопасный съем больших и/или хрупких кристаллов/элементов. Еще одним достоинством УФ-пленки является стабильность ее адгезии после облучения в течение длительного времени. Это очень важно в случаях, когда с пленки снимается только требуемая на определенный период часть кристаллов/элементов, а оставшаяся будет сниматься через некоторое время.

 

Технические характеристики: 
Диаметр экспонируемых пластин, не более, мм

200

Эффективная длина волны УФ-излучения, нм

365

Диапазон времени экспонирования, мин

0-60

Дискретность изменения времени экспонирования, с

1

Потребляемая мощность, не более, Вт

150

Напряжение питания, В

220

с частотой тока, Гц

50

Габаритные размеры, не более, мм

540х380х180

Масса, не более, кг

15

 

 

e-mail:niitop@niitop.ru