Радиоэлектронное машиностроение


Нижегородский институт технологии и организации производства

Полупроводниковое оборудование

Установки проявления и нанесения фоторезиста
 
Установка проявления позитивного фоторезиста УПФ-1
Установка предназначена для проявления негативного фоторезиста на подложке методом центрифугирования. Установка может применяться автономно и в составе линии. Установка изготовлена в климатическом исполнении УХЛ 4.1 по ГОСТ 15150-69. Питание установки осуществляется от сети переменного тока напряжением 220В частотой 50 Гц. Требование к качеству электрической энергии по ГОСТ 13109-87. Установка обеспечивает работу при подаче сжатого воздуха по ГОСТ 17433 под давлением 3*105 Па, 3кгс/см2. Требуется устройство сливного вывода в канализацию.
УПФ
Технические данные:
 
Длина мм
850
Ширина  мм
750
Высота мм
1400
Масса не более кг.
200
Размер используемых подложек (мм)
60х48, 48х30, 48х20, 30х24, 24х15.
Частота вращения вала об/мин
0-3500
Дискретность задания скорости об/мин
+/- 1
Точность поддержания скорости вращения %.
+/- 1
Количество каналов подачи проявителя
1
Количество каналов подачи деионизованной воды
1
Диапазон дозирования проявителя мл
1…120,0
Точность дозирования мл
+/- 0,2
Диапазон дозирования деионизированной воды мл
100…300,0
Точность дозирования деионизированной воды мл
10…50,0
Установка комплектуется
набор сменных столиков
Диапазон задания времени цикла сек
1…999
Максимальная электрическая мощность, требуемая установкой, не более кВ.А
1,0
Расход сжатого воздуха, подаваемого в установку, не более м3
14
Установка обеспечивает непрерывную работу в течение ч
8
 
 
 Установка проявления негативного фоторезиста УПФ-2
Установка предназначена для проявления позитивного фоторезиста на подложке методом центрифугирования. Установка может применяться автономно и в составе линии. Установка изготовлена в климатическом исполнении УХЛ 4.1 по ГОСТ 15150-69. Питание установки осуществляется от сети переменного тока напряжением 220В частотой 50 Гц. Требование к качеству электрической энергии по ГОСТ 13109-87. Установка обеспечивает работу при подаче сжатого воздуха по ГОСТ 17433 под давлением 3*105 Па, 3кгс/см2.
 
 
 
УПФ 2
Технические данные:
 
Длина мм
850
Ширина мм
750
Высота мм
1400
Масса не более кг
200
Размер используемых подложек (мм)
60х48, 48х30, 48х20, 30х24, 24х15.
Частота вращения вала об/мин
0-3500
Дискретность задания скорости об/мин
+/- 1
Точность поддержания скорости вращения %.
+/- 1
Количество каналов подачи проявителя
1
Количество каналов подачи изопропилового спирта
1
Диапазон дозирования проявителя мл
1…120,0
Точность дозирования мл
+/- 0,2
Диапазон дозирования изопропилового спирта мл
100…30,00
Точность дозирования изопропилового спирта мл
10…50,0
Установка комплектуется
набор сменных столиков
Диапазон задания времени цикла сек
1…999
Максимальная электрическая мощность, требуемая установкой, не более кВ.А
1,0
Расход сжатого воздуха, подаваемого в установку, не более м3
14
Установка обеспечивает непрерывную работу в течение ч
8
 Установка нанесения позитивного фоторезиста УНФ-1
Установка предназначена для нанесения позитивного фоторезиста на подложке методом центрифугирования. Установка может применяться автономно и в составе линии. Установка изготовлена в климатическом исполнении УХЛ 4.1 по ГОСТ 15150-69. Питание установки осуществляется от сети переменного тока напряжением 220В частотой 50 Гц. Требование к качеству электрической энергии по ГОСТ 13109-87.
Установка обеспечивает работу при подаче сжатого воздуха по ГОСТ 17433 под давлением 3*105 Па, 3кгс/см2.
 
 
 
УПФ 2
Технические данные:
 
Длина мм
850
Ширина мм
750
Высота мм
1400
Масса не более кг
200
Размер используемых подложек (мм)
60х48, 48х30, 48х20, 30х24, 24х15.
Частота вращения вала об/мин
0-3500
Дискретность задания скорости об/мин
+/- 1
Точность поддержания скорости вращения %.
+/- 1
Количество каналов подачи фоторезиста
1
Точность дозирования 0,2 мл
+/-
Диапазон дозирования фоторезиста мл
0,5…10,0
Установка комплектуется
набор сменных столиков
Диапазон задания времени цикла сек
1…999
Максимальная электрическая мощность, требуемая установкой, не более кВ.А
1,0
Расход сжатого воздуха, подаваемого в установку, не более м3
14
Установка обеспечивает непрерывную работу в течение ч
8
 Установка нанесения негативного фоторезиста УНФ-2
Установка предназначена для нанесения негативного фоторезиста на подложке методом центрифугирования. Установка может применяться автономно и в составе линии. Установка изготовлена в климатическом исполнении УХЛ 4.1 по ГОСТ 15150-69. Питание установки осуществляется от сети переменного тока напряжением 220В частотой 50 Гц. Требование к качеству электрической энергии по ГОСТ 13109-87. Установка обеспечивает работу при подаче сжатого воздуха по ГОСТ 17433 под давлением 3*105 Па, 3кгс/см2.
 
 
УПФ 2
Технические данные:
 
Длина мм
850
Ширина мм
750
Высота мм
1400
Масса не более кг
200
Размер используемых подложек (мм)
60х48, 48х30, 48х20, 30х24, 24х15.
Частота вращения вала об/мин
0-3500
Дискретность задания скорости об/мин
+/- 1
Точность поддержания скорости вращения %.
+/- 1
Количество каналов подачи фоторезиста
1
Диапазон дозирования фоторезиста мл
0,5…10,0
Точность дозирования мл
+/- 0,2
Установка комплектуется
набор сменных столиков
Диапазон задания времени цикла сек
1…999
Максимальная электрическая мощность, требуемая установкой, не более кВ.А
1,0
Расход сжатого воздуха, подаваемого в установку, не более м3
14
Установка обеспечивает непрерывную работу в течение ч
8
  Технохимическое  оборудование  для  полупроводникового  производства

1

  
Комплект  оборудования  для технохимической обработки подложек в производстве микрополосковых плат в составе:
  •  Линия химического осаждения золота; 
 

Линия химического осаждения золота

  • Линия подготовки поверхности меди перед нанесением фоторезиста на проводниковые слои и перед золочением;
Линия подготовки поверхности меди перед нанесением фоторезиста на проводниковые слои и перед золочением 
  • Линия травления резистивных слоев; 

Линия травления резистивных слоев

  • Линия химической подготовки подложек перед напылением резистивных и проводниковых слоев;

Линия химической подготовки подложек перед напылением резистивных и проводниковых слоев

  • Линия предварительной химической подготовки подложек перед напылением;

    Линия предварительной подготовки подложек перед напылением

Технические и функциональные характеристики, качество  оборудования 
Общие требоавания:
Линии встроены в пылезащитные шкафы, модули монтируются на индивидуальных каркасах со встроенными блоками управления.
Каркасы оборудованы роликовыми опорами с фиксаторами.
Каркас представляет собой сварную конструкцию из стальных прямоугольных труб с защитным полимерным покрытием, на котором монтируется столешница из полипропилена, с ваннами и исполнительными устройствами.
Конструкция и исполнение линий технических процессов отвечает требованиям к  оборудованию , установленному в помещении с классом чистоты 8 ИСО ГОСТ Р ИСО 14644-4-2002 «Требуемые классы чистоты. Чистые помещения и связанные с ними контролируемые среды».

Ванны в модулях устанавливаются в указанной ослдовательности на линии

Ванны в модулях устанавливаются в указанной последовательности на линии.
 

Ванны, кроме глухих, оборудованны сливными патрубками с вентилями

Ванны, кроме глухих, оборудованы сливными патрубками с вентилями.

Ванны улавливания и ванны промывки оборудованы заливными патрубками

Ванны улавливания и ванны промывки оборудованы заливными патрубками, ванны промывки оборудованы сливом из основной ванны с вентилем, из кармана – без вентиля.
 
Устройства слива растворов и промывки вод расположены под столешницей модулей над поддоном и соединяться общей сливной трубой с установкой регенерации, либо с канализационным трубопроводом, кроме сливов органических растворителей. Органические растворители сливаются в емкости. Растворы из глухих ванн удаляются либо насосом в соответствующий трубопровод, либо путем извлечения ванны и сливом в емкость (легкосъемные ванны).
Залив и слив (с помощью вентиля) технологических растворов в (из) ванн производиться вручную. Глухие ванны легкосъемные.
 

Глухие ванны легкосъемны

Деионизованная вода в промывные ванны подается из накопительной емкости насосом, расположенным непосредственно на участке водоподготовки деионизованной воды. Управление насосом осуществляется с мест потребления деионизованной воды.
Ванны промывки в проточной воде оснащены системой регулировки подачи деионизованной воды из накопительной емкости.
 

Ванны промывки в проточной воде оснащены системой регулировки подачи деионизированной воды из накопительной емкости

Ванны сушки оборудованы регистрами с форсунками, нагрев воздуха и азота производится калориферами. Датчик установлен в протоке подогреваемой среды. Калорифер изготовлен из алюминиевого сплава, нагрев осуществляется ИК лампами.

Калорифер изготовлен из алюминиевого сплава, нагрев осуществляется ИК лампами

Система подогрева обеспечивает постоянный и равномерный подогрев рабочей среды.
Управление осуществляется с места потребления при помощи магнитного клапана.
Должно быть обеспечено соответствие подаваемого воздуха требованиям ГОСТ 18463.
Нагревательные элементы ванн не вносят загрязнений в технологические среды, ванны с нагревом технологической среды укомплектованы датчиками для непрерывного измерения температуры рабочей среды.
Контроль и регулировка температуры осуществляется микропроцессорными устройствами.

Контроль и регулировка температуры осуществляется микропроцессорными устройствами

Точность поддержания температуры растворов в регулируемом диапазоне должна быть +\- 10С.

Точность поддержания температуры растворов в регулируемом диапазоне должна быть +- 1С

Контроль времени осуществляется микропроцессорными реле времени. Реле должно индицировать время окончания процесса и позволять задавать число циклов обработки от 1 до 5, время обработки и обеспечивать подачу сигнала об окончании процесса. Время нагрева реагентов от температуры 200С до 1000С 60 минут.
Ванна никелирования , ванны золочения , ванна палладирования оборудованы крышками из фторопласта.

Ванна никелирования, ванны золочения , ванны палладирования оборудованны крышками из фторопласта

Ванны промывки оборудованы крышками из пролипропилена.
 

Ванны промывки оборудованы крышками из полипропилена

Кассеты для подложек выполнены из фторопласта.
Для линии предварительной химической подготовки подложек перед напыление, линии химической подготовки подложек перед напылением резистивных и проводниковых слоев, линии подготовки поверхности меди перед нанесением фоторезиста и перед золочением конструктивно предусмотрено крепление поликоровых подложек толщиной 1 мм в вертикальной плоскости размером (мм):
  • 24х15 в количестве 80 штук;
  • 30х24 в количестве 30 штук;
  • 20х48 в количестве 20 штук;
  • 48х30 в количестве 30 штук;
  • 60х48 в количестве 20 штук;
Доступ на линейный размер 0,1 мм.
Подложки крепятся точечным касанием (след не более 0,5х0,5 мм).
Количество кассет по типоразмерам:
  • 24х15 – 10 штук;
  • 30х24 – 10 штук;
  • 20х48 – 10 штук;
  • 48х30 – 10 штук;
  • 60х48 – 10 штук;
Для линии травления резистивных слоев и линии травления проводниковых слоев конструктивно предусмотрено приспособление в виде корзины для расположения подложек в горизонтальной плоскости, размером:
  • 24х15 в количестве 8 штук;
  • 30х24 в количестве 3 штук;
  • 20х48 в количестве 4 штук;
  • 48х30 в количестве 4 штук;
Количество кассет по типоразмерам:
  • 24х15 – 5 штук;
  • 30х24 – 5 штук;
  • 20х48 – 5 штук;
  • 48х30 – 5 штук;
  • 60х48 – 5 штук;
Под ваннами расположены полипропиленовые поддоны для сбора растворов при аварийной утечке.
Линии оснащены открывающимися прозрачными экранами по фронту и прозрачными стационарными боковыми экранами. Верхнее фронтальное поликарбонатное стекло крепится к каркасу линии петлями, нижние дополнительные фронтальные поликарбонатные стекла – съемные.
В задней полипропиленовой стенке линий расположены вентиляционные решетки и фланцы для подключения вытяжной вентиляции.
Линии оснащены системой автоматизированного контроля за параметрами технологического процесса (температура, время).

Линии оснащены системой автоматизированного контроля за параметрами технического процесса

Производительность линий 300 подложек в смену.
Мощность линий 10 кВт.
e-mail:niitop@niitop.ru